世界的な半導体サプライチェーンの再編と国産化政策の推進を受け、ArF、KrF、電子線フォトレジストの自主開発は、中国の材料産業における重要な課題となっています。中間体の精密合成と高純度制御能力は、フォトレジストの国産化を阻む主要なボトルネックとなっています。

近年、多くの下流フォトレジストメーカーは、特に脂肪族アルコールモノマー、アルキルアクリレート、フッ素化モノマーなど、特殊な構造と複数の合成段階を必要とする化合物に焦点を当て、現地の中間体企業との連携を強化しています。

Catsynは、フッ素化、触媒反応、キラル構築といった複雑な経路の開発をサポートする多段階合成プラットフォームを構築しました。オートクレーブとLC-MS分析プラットフォームを備え、キレート化/イオン交換プロセスを用いて金属不純物をppbレベルまで制御することで、実験室での試作からパイロットスケールでの検証まで、シームレスなプロセスを実現します。